化学气相沉积工艺及沉积装置/物理汽相沉积/沉积膜/电沉积/液滴沉积装置/沉积设备专利技术4

1. 通过等离子体CVD方法形成沉积膜的装置和方法
2. 阳离子电沉积涂料组合物
3. 一种改进的化学气相沉积装置
4. 化学气相沉积反应室的气体分配器的清洗方法
5. 一种电解沉积金属锰用阳极
6. 用电泳沉积制备沸石纤维的方法
7. 化学蒸汽沉积法沉积γ-三氧化二铝
8. 热化学汽相沉积设备和使用该设备合成碳纳米管的方法
9. 含增塑剂的阳离子型电沉积涂料组合物
10. 电子回旋共振微波等离子体增强金属有机化学汽相沉积外延系统与技术
11. 导电材料沉积和抛光用的磨具
12. 原子层沉积室的阀控制系统
13. 用于生产金属的方法和电解沉积槽
14. 在铜晶种沉积后的植入方法
15. 对于可编程器件使用原子层沉积
16. 采用甲酸铜配合物的铜沉积方法
17. 沉积有氧化物磁性层和金属磁性膜的磁致电阻元件
18. 用于真空沉积有机电致发光器件薄膜的张力掩模组件
19. 一种用于透射电镜观察的化学沉积镍固定合金粉末制样方法
20. 一种降低SiC介电常数的沉积工艺
21. 自沉积阴离子环氧树脂水分散体
22. 用于电子器件的阳离子型电沉积涂敷组合物
23. 用离子束辅助沉积技术对硬质合金冲头表面进行处理的方法
24. 激光诱导液相沉积制作印制板导电线路的工艺方法
25. 阳离子嵌段共聚物促进简单乳液或多重乳液的沉积的用途
26. 硼磷硅酸盐玻璃沉积的方法和设备
27. 从液化气体溶液沉积材料
28. 制造高孔隙率金属带材的电沉积设备
29. 用于电沉积金和金合金的镀液及其应用
30. 自沉积组合物
31. 供沉积在基材上的材料配方和方法
32. 介电层的沉积方法
33. 用于控制工件预定部分上的沉积的方法和装置
34. 具有连续沉积和蚀刻的电离PVD
35. 液滴沉积装置
36. 改进的电泳沉积
37. 能防止污染并提高膜生长速率的化学气相沉积方法和设备
38. 在介电材料上选择性沉积阻挡层的方法
39. 作为用于铜金属化的阻挡层的原子层沉积氮化钽和α相钽
40. 对旋涂玻璃和有关自平坦化沉积生成填充图形
41. 原子层沉积装置和方法
42. 用于在杆状预制件的外表面上沉积玻璃层的方法和装置
43. 微滴沉积设备
44. 用于微滴沉积装置的支架
45. 取代多糖，沉积硅氧烷的方法，组合物及该组合物的用途
46. 用于将颗粒沉积在一个移动基板上的设备及方法
47. 微沉积控制系统及方法
48. 用于微滴沉积装置的喷嘴板、其制造方法和喷嘴板坯件
49. 电阻加热式单晶片腔室中的掺杂的硅沉积工艺
50. 等离子体外部化学气相沉积用多火炬-多靶方法和设备
51. 抗菌无铅阳离子电沉积涂层组合物
52. 用于直接喷射汽油发动机的沉积控制添加剂
53. 用于铁电薄膜的金属有机化学气相沉积和退火处理
54. 在扫描探针显微镜悬臂及其针尖上沉积薄膜的方法
55. 化学气相沉积设备
56. 用于玻璃的化学汽相沉积的燃烧器
57. 一种在磁性随机存取存储器位材料沉积之前改进表面平坦度的方法
58. 用于电致发光荧光体的喷镀沉积方法
59. 倒置化学气相沉积(CVD)的装置
60. 沉积材料层的方法
61. 喷射沉积有机物蒸汽的方法和装置
62. 作为抑制原油中石蜡沉积的添加剂的丙烯酸聚合物胶乳分散液与含有它们的组合物
63. 用于电化学沉积金及其合金的电解槽
64. 包含颗粒和沉积助剂的洗发剂
65. 从金属有机的含烷基铝的电解液中电沉积铝或铝合金的装置
66. 通过在多孔材料上的SIC:H沉积提高金属阻挡性能
67. 用于光盘的薄膜沉积方法
68. 用于制造二元光掩模坯料的离子束沉积方法
69. 用于制造衰减相移光掩模坯的离子束沉积方法
70. 以沉积工艺将互连区域选择性合金化的方法
71. 玻璃颗粒沉积体的制造方法
72. 掺锑的金属氧化物的化学气相沉积
73. 用作电解沉积银、金或其合金之一的电解液中的光亮剂的混合物
74. 通过增强电解溶液混和来沉积平面金属的阳极设计以及使用这种设计供应电解溶液的工艺
75. 用于制造玻璃颗粒沉积体的装置及方法
76. 微沉积装置
77. 用于微沉积控制的波形发生器
78. 喷墨沉积装置和方法
79. 将防护涂料沉积在聚合物底材上的方法和防护涂料
80. 用于避免在电沉积中粒子聚集的方法和设备
81. 磁性媒质用含氟酮润滑剂沉积溶剂
82. 钨硅闸极选择性侧壁氧化期间最小化氧化钨蒸气沉积之方法
83. 在基质上沉积至少部分结晶硅层的方法和设备
84. 纳米碳化物沉积增强的超高强度的、耐腐蚀的结构钢
85. 用于在衬底上沉积具有较高介电常数的涂层的方法
86. 用于控制含水体系中水垢形成和沉积的方法
87. 蚀刻在玻璃基片类型的透明基片上沉积的层的方法
88. 用于铝电解沉积的尺寸稳定的阳极材料
89. 生产玻璃颗粒沉积体的方法和设备
90. 耐光降解的可电沉积涂料组合物和与之相关的方法
91. 卧式多层陶瓷薄膜气相沉积装置
92. 有机发光组件的沉积设备
93. 旋转式碳化活化及气相沉积两用炉
94. 化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石制品
95. 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理装置
96. 改进的化学气相沉积工艺用新型排气管
97. 气相法纳米微粉沉积收集装置
98. 光化学气相沉积设备
99. 光化学气相沉积设备的光透过窗口装置
100. 一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置
101. 化学汽相沉积前质体的汽化器
102. 用于优先化学气相沉积的方法和系统
103. 薄膜沉积装置
104. 铝合金缸体内壁陶瓷涂层的等离子体电解沉积方法及装置
105. 一种钛合金表面共溅射沉积羟基磷灰石(HA)/钛(Ti)梯度生物活性层的方法及其制品
106. 超声起雾效应制备薄膜的大面积沉积设备
107. 提高电子回旋共振化学气相沉积速度的方法及装置
108. 用于生产有机发光装置的热物理蒸汽沉积源
109. 化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石材料及应用
110. 喷涂沉积大面积均匀透明导电薄膜扫描装置
111. 光刻胶沉积设备以及使用该设备形成光刻胶薄膜的方法
112. 增加原子层沉积速率的方法
113. 阳离子电沉积涂料组合物
114. 用于氧化锆和氧化铪薄膜沉积的前驱体
115. 以单一晶圆式化学气相沉积的反应器连续形成氧化物/氮化物/氧化物绝缘层的制造方法
116. 容器内表面化学气相沉积涂层方法
117. 硅锗/硅的化学气相沉积生长方法
118. 沉积薄膜及其制造方法
119. 无籽晶无偏压金刚石准单晶膜的沉积方法
120. 利用等离子体化学气相沉积法沉积薄膜的方法
121. 等离子体辅助化学气相沉积装置脉冲电源的驱动电路
122. 一种高沉积速率PCVD工艺制作光纤芯棒的方法
123. PCVD沉积车床出气端旋转接头装置
124. 利用电沉积技术制备可调电子和光子带隙的三维半导体量子点光子晶体的方法
125. 固体源化学气相沉积生长ZnO薄膜的方法
126. 铁沉积二氧化钛复合光催化剂及其制备方法
127. 一种用于高温下薄膜沉积的面内旋转装置
128. 混入碳粉末工作液的金属表面陶瓷层放电沉积方法
129. 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理方法及装置
130. 用于骨植入材料的磷酸钙盐涂层沉积溶液配方及涂层方法
131. 等离子体沉积镀膜系统的废气过滤装置
132. 利用等离子体技术沉积复合型耐腐蚀层和亲水层的方法
133. 用共溅射法沉积赫斯勒合金薄膜的方法
134. 液相电沉积N-型及P-型一维纳米线阵列温差电材料及设备和制备方法
135. 物理气相沉积制备大面积氧化锌纳米线膜层的方法
136. 于一半导体晶片表面上沉积一薄膜的方法
137. 抑制陷穴的方法和用于阳离子电沉积涂料组合物的陷穴抑制剂
138. 在有机发光装置制造中沉积有机层的方法和装置
139. 一种组合式物理气相沉积技术生产多孔金属的方法及设备
140. 同基合金表面离子沉积方法
141. MgB*超导薄膜的原位热丝化学气相沉积制备方法
142. 适用于低温热化学气相沉积合成纳米碳管的负载金属触媒及使用此触媒的纳米碳管合成方法
143. 沉积绝缘层于沟槽中的装置
144. 用于化学沉积槽电解质的电渗析再生系统
145. 采用改进的化学气相沉积制备大容量光纤预制件的方法
146. 电沉积涂层装置的防腐方法
147. 钨金属化学气相沉积法中原子层沉积的方法
148. 氧化硅薄膜的沉积
149. 在半导体互连结构上沉积金属层的方法
150. 低温大面积类金刚石薄膜沉积方法
151. 用于生产金属的电解沉积槽的结构部件的材料
152. 用于防止煤烟在静电过滤器绝缘部分沉积的方法和装置
153. 生长氧化锌半导体薄膜的金属有机化合物汽相沉积装置
154. 制备用于化学气相沉积的汽化反应物的方法和装置
155. 使用低蒸气压气体前体向基材上沉积膜的系统
156. 从单层沉积用试样悬浮物捕获所需量材料的过滤器装置和方法
157. 在基底上进行电晕致化学气相沉积
158. 低介电常数材料以及化学气相沉积（CVD）制备方法
159. 沉积用于有机发光显示器装置的发射层
160. 等离子加工系统中带有沉积罩的上电极板
161. 修复钢筋混凝土结构裂缝用的电化学沉积装置
162. 由沉积镍氧化物的活性炭构成的超级电容器正极材料及制备方法
163. 在半导体应用的电沉积铜中缺陷的降低
164. 液相源雾化微波等离子体化学气相沉积制备薄膜的方法
165. 由金属或复合物电沉积所制备的中空无机膜
166. 在半导体Si基片上沉积纳米Cu颗粒膜的高压电化学方法
167. 原子层沉积反应设备
168. 加热坩埚、沉积装置和场致发光器件的生产方法
169. 低温熔盐复合电沉积制备羟基磷灰石涂层的方法
170. 水热复合电沉积制备羟基磷灰石/TiO 涂层的方法
171. 导电无电镀沉积刻蚀停止层、衬垫层及通孔插塞在互连结构中的使用
172. 一种聚苯胺的图形化沉积方法
173. 具有化学气相沉积的喷嘴板的热喷墨机
174. 熔融沉积制造快速原型覆模技术与工艺
175. 监控处理室中薄膜沉积的方法及设备
176. 静电沉积的方法
177. 气相沉积制备ZnO晶须的方法及其装置
178. 气相沉积制备一维氧化物阵列材料的方法及其装置
179. 物理气象沉积负载的混合金属氧化物催化剂
180. 用于制备光纤预型体的改进的化学气相沉积设备
181. 化学气相沉积涂涂料设备
182. 沉积室的部件结构
183. 一种生长氧化锌晶体薄膜的金属有机化合物汽相沉积装置
184. 电解液和金属的无电沉积方法
185. 喷射沉积坯动态尺寸的视觉检测方法
186. 化学气相沉积处理装置
187. CMOS栅的原子层沉积
188. 用可电沉积介电涂料组合物制备电路组件的方法
189. 用于金属电解沉积的喷射床电极电解池
190. 二氧化硅纳米层压材料的气相沉积
191. 在基质的选择部分上无电沉积金属层的方法
192. 在离散片上沉积多层涂层的装置
193. 微滴沉积装置
194. 一种等离子热丝法化学气相沉积金刚石膜的装置
195. 在容器中沉积等离子体涂层的方法和设备
196. 由热化学气相沉积制造氮化硅薄膜和氮氧化硅薄膜的方法
197. 用于防止供水系统中出现沉积的共聚物及其制备方法和用途
198. 无机/有机薄膜的沉积方法
199. 物理气相沉积系统中的准直管的温度控制装置
200. 化学气相沉积金刚石厚膜的焊接方法

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