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氮化硅/氮化硅膜/氮化硅透波材料/纳米氮化硅粉体/氮化硅烧结体专利技术1

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1. 纳米级氮化硅复合材料发热体及制作工艺 
2. P型信道氮化硅只读存储器的擦除方法 
3. 一种纳米级氮化钛-氮化硅复合材料的制备方法 
4. 基底/氧化硅/氮化硅/氧化硅/硅组件的制造方法 
5. 氮化硅只读存储器组件的制造方法 
6. 防止天线效应的氮化硅只读存储器组件的结构 
7. 氮化硅只读存储器的结构与制造方法 
8. 低压燃烧合成氮化硅或氮化硅铁的方法及设备 
9. 利用原子层沉积法形成氮化硅间隙壁的方法 
10. 密封氮化硅过滤器的方法和密封组合物 
11. 氮化硅只读存储器的制造方法 
12. 氮化硅只读存储器的制造方法 
13. 氮化硅内存的制造方法 
14. 在氮化硅层上形成氮氧化硅层的方法 
15. 在栅极蚀刻处理后用湿式化学方法去除氧氮化硅材料 
16. 导电性氮化硅复合烧结体及其制备方法 
17. 超薄氮化硅/氧化硅栅极介电层的制造方法 
18. 氮化硅存储器件及其制造方法 
19. 提高硼硅玻璃膜及氮化硅膜之间粘合强度的方法 
20. 氮化硅膜、半导体装置及其制造方法 
21. 氮化硅膜制作方法及氮化硅膜制作装置 
22. 一种用于炼铁高炉的氮化硅刚玉质浇注耐火材料 
23. 降低氮化硅的湿蚀刻速率的方法 
24. 氮化硅只读存储器的制造方法 
25. 利用图案化金属结构增加氮化硅表面粘着度的方法 
26. P型氮化硅只读存储器器件的初始化方法 
27. 具有保护二极管的氮化硅只读存储器结构及其操作方法 
28. 相对于未掺杂二氧化硅和氮化硅能选择性蚀刻掺杂二氧化硅的蚀刻剂,其使用方法和形成的结构 
29. 低介电氮化硅膜及其制造方法和半导体器件及其制造工艺 
30. 氮化硅基复合烧结体及其生产方法 
31. 具有高疲劳寿命的氮化硅轴承球 
32. 氮化硅烧结体及其制造方法 
33. 氮化硅电路板 
34. 氮化硅的自研磨 
35. 高导热性氮化硅烧结体、其制造方法和压接结构体 
36. 高热导率氮化硅电路衬底和使用它的半导体器件 
37. 氮化硅多孔体及其制造方法 
38. 高强度氮化硅多孔体及其制造方法 
39. 含硅-氮和硅-硅键的共聚物和热解该共聚物得到的聚碳硅氮烷及该聚碳硅氮烷制备-碳氮化硅的应用 
40. 一种金属与玻璃封接的氮化硅模具和模具的制造方法 
41. 氮化硅/氮化硼复合材料及其制造方法 
42. 高致密氮化硅反应烧结体的快速制备方法 
43. 双管加压制备氮化硅超细粉的方法 
44. 晶须补强氮化硅复合材料制造方法 
45. 低温光化学气相淀积二氧化硅、氮化硅薄膜技术 
46. 反应结合氮化硅体浸渍工艺 
47. 高性能β-氮化硅晶晶须的制备方法 
48. 碳化硅-氮化硅复相梯度材料的制备 
49. 由二氧化硅碳氮共渗制备氮化硅的方法以及无晶须的颗粒氮化硅 
50. 碳氮共掺法制备氮化硅的连续工艺和制得的氮化硅 
51. 中间包水口用氮化硅结合碳化硅耐火材料 
52. 高致密、低气孔率氮化硅-碳化硅-氧化物系统耐火材料 
53. 无缺陷氮化硅晶须的制备 
54. 氮化硅电热塞中氮化硅与金属的一步活性连接方法 
55. 纳米非晶原位合成氮化硅晶须 
56. 半石墨化碳氮化硅材料及其生产方法 
57. 氮化硅烧结体的制造方法 
58. 一种生产高强度氮化硅结合碳化硅制品的方法 
59. 具至少一种氮化硅或氧氮化硅基薄层的透明基体及其制法 
60. 使用二(叔丁基氨基)硅烷淀积二氧化硅和氧氮化硅 
61. 氮化硅材料固相有机前驱体除氧增强的方法 
62. 氮化硅电梯安全制动器 
63. 从氧化硅膜选择蚀刻氮化硅膜的方法 
64. 一种制造高纯度超细氮化硅的方法及设备 
65. 氮化硅发热体及其制造方法 
66. 去除氮化硅保护层针孔的方法 
67. 氮化硅车用电热杯 
68. 一种超高韧性氮化硅基复合材料的制备方法 
69. 碱性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺 
70. 酸性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺 
71. 制造氧氮化硅的方法 
72. 自蔓延高温合成氮化硅铁粉末的制备方法 
73. 金属间介质半导体制造中氟硅玻璃薄膜的氧氮化硅盖层 
74. 超细氮化硅微粉气相合成新工艺 
75. 氮化硅用作医用生物材料的组合物、生产和应用 
76. 自蔓延高温合成制备β-氮化硅晶须的方法 
77. 一种氮化硅水基浓悬浮体的制备方法 
78. 用电子回旋共振微波等离子体制备超薄氮化硅薄膜 
79. 除去氮化硅膜的方法 
80. 具有厚氧化硅和氮化硅钝化层的光电池及其制造方法 
81. 利用溶剂热反应低温合成氮化硅纳米材料的方法 
82. 氮化硅点火器 
83. 一种氮化硅彩虹玻璃及其制备方法 
84. 一种方镁石氮化硅复合耐火制品及制备方法 
85. 刚玉-氮化硅-碳化硅复合浇注料 
86. 氮化硅与碳化硅制造热镀锌槽的方法 
87. 测量氧化硅层-氮化硅层-氧化硅层电学厚度的方法 
88. 通过后PECVD沉积UV处理增加氮化硅膜的拉伸应力的方法 
89. 活塞环表面涂覆氮化硅膜层的方法 
90. 用于二氧化硅和氮化硅层的可印刷蚀刻介质 
91. 氮化硅的化学气相沉积方法 
92. 控制氮化硅蚀刻槽的装置与方法 
93. 碘辅助低温制备氮化硅纳米材料的方法 
94. 一种氮化硅透波材料的制备方法 
95. 一种碳氮化硅薄膜的制备方法 
96. 碳氮化硅酸盐发光物质 
97. 一种利用硫辅助反应低温制备氮化硅纳米棒的方法 
98. 含有α-氮化硅晶须的氮化硅水基流延浆料及其制备方法 
99. 增加PECVD氮化硅膜层的压缩应力的方法 
100. 制备“无缺陷”氮化硅晶须的装置 
101. 氮化硅涂层坩埚 
102. 氮化硅结合碳化硅材料作侧衬砖的铝电解槽 
103. 工字型氮化硅结合碳化硅横梁 
104. 氮化硅电热水器 
105. 氮化硅发热装置 
106. 带消音装置的氮化硅发热装置 
107. 漏电安全型氮化硅发热体 
108. 氮化硅电开水炉 
109. 氮化硅电开水器 
110. 设有环形应力缝的自结合碳化硅、氮化硅结合碳化硅棚板 
111. 铝电解槽侧墙用氮化硅结合碳化硅耐火砖及其制备方法 
112. 增进氮化硅只读存储器的存储单元保持力的方法 
113. 以氮化硅镁作为生长助剂燃烧合成制备β-氮化硅棒晶 
114. 一种造粒燃烧合成氮化硅的生产方法 
115. 氮化硅质蜂窝式过滤器及其制造方法 
116. 氮化硅质过滤器的制造方法 
117. 氮化硅膜、半导体器件、显示器件及制造氮化硅膜的方法 
118. 用化学蒸气沉积技术沉积氮化硅膜和氧氮化硅膜的方法 
119. 用微波技术快速烧结氮化硅结合碳化硅耐火材料的方法 
120. 处理包含含氧氮化硅介质层的半导体器件的方法 
121. 用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法 
122. 化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法 
123. 控温活化自蔓延燃烧合成α相氮化硅粉体的方法 
124. 氮化硅的模型配件和制造这种模型配件的方法 
125. 用于电致发光显示器的氧氮化硅钝化的稀土激活硫代铝酸盐磷光体 
126. 由热化学气相沉积制造氮化硅薄膜和氮氧化硅薄膜的方法 
127. 氮化硅和碳化硅一维纳米结构及其制备方法 
128. 氮化硅只读存储元件的操作方法 
129. 氮化硅只读存储器的制造方法 
130. 定义氧化硅/氮化硅/氧化硅介电层的方法 
131. 降低第二位效应的氮化硅只读存储单元及其制造方法 
132. 制造氮化硅只读存储器的方法 
133. 制备纳米氮化硅粉体的气相合成装置 
134. 制备纳米氮化硅粉体的系统 
135. 一种氮化硅燃烧合成过程中增压调控的生产方法 
136. 氮化硅只读存储器及其制造方法 
137. 制造氮化硅只读存储器的方法 
138. 氮化硅只读存储器及其制造方法 
139. 制造具有氧化硅/氮化硅/氧化硅层的半导体组件的方法 
140. 氮化硅耐磨部件及其制造方法 
141. 一种含氮化硅铁的免烘烤铁沟捣打料 
142. 双终点检测控制STI CMP工艺氮化硅厚度稳定性的方法
143. 一种控制STI CMP工艺中残余氮化硅厚度稳定性的方法
144. 解决湿法剥离氮化硅薄膜新的清洗溶液 
145. 移除氮化硅层的方法 
146. 蚀刻氮化硅薄膜的设备及方法 
147. 自蔓延高温合成氮化硅镁粉体的制备方法 
148. 由硅化镁燃烧合成氮化硅镁粉体的制备方法 
149. 一种纳米氮化硅抛光组合物及其制备方法 
150. 多阶氮化硅只读记忆胞的程序化方法 
151. 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的多步方法 
152. 具有锗化硅材料和受应力氮化硅层的衬底 
153. 氮化硅薄膜及其制造方法 
154. 控温燃烧合成α相氮化硅粉体的方法 
155. 借由控制膜层生成前驱物来控制所沉积氮化硅膜的性质及均一性的方法 
156. 氮化硅层的形成方法 
157. 氮化硅电荷捕获存储器件

 
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