溅射靶和透明导电膜

溅射靶和透明导电膜：含有氧化铟与氧化锌所组成的In#-[2]O#-[3](ZnO)#-[m][式中的m表示2～7的整数]所表示的六方晶层状化合物、还含有具有正四价以上原子价的第三种元素的氧化物0.01～1原子％的溅射靶、和使用该靶进行制膜形成的透明导电膜。因此可以提供体积电阻率低且稳定性好可以进行溅射的溅射靶、和使用该靶进行制膜所得的蚀刻加工性优异的透明导电膜。

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