用于化合物半导体器件的化学抛光腐蚀液

用于化合物半导体器件的化学抛光腐蚀液：该腐蚀溶液是选择双氧水为氧化剂，盐酸为络合剂，按体积比配制的混合溶液，ＣｄＴｅ、ＧａＡｓ化合物半导体器件经过这种腐蚀溶液化学抛光，都能制备出性能优良的核辐射探测器。使用该腐蚀液对环境无污染、操作简单，用去离子水可直接淬灭，因此成本低，有广泛推广应用价值。 

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